No.2004-05
2004年5月10日発行
目  次
Ⅰ 国内外トピックス
  1 第10回国際マイクロマシンサミット報告
  2 ハノーバー・メッセ視察報告
  3 新聞記事
Ⅱ マイクロマシンセンターの動き
  1 平成16年度第1回運営委員会の開催
  2 平成16年度の調査研究事業に向けて
Ⅲ イベント案内
  1 当センター主催のイベン
  2 その他のイベントのお知らせ
Ⅳ その他会員への情報 
  1 日本ユニシス・エクセリューションズ株式会社が特別賛助会員入会
  2 マイクロマシンセンター人事異動
  3 ホームページのパスワード変更


本  文
Ⅰ 国内外トピックス

1 第10回国際マイクロマシンサミット報告

 第10回国際マイクロマシンサミットは、5月3日~5日の3日間、フランスのグレノーブルにおいて、NEXUS Chairmanの Gaetan Menozziが議長をつとめ、NEXUS、CEA LETI、MINATEC、FEMTO-STの4研究機関の共催で開催された。

 今回は23ケ国・地域からこれまで最高の108人が参加し、日本からは代表団4名とオブザーバー3名の計7名が参加しました。特に注目されたのは、国際的に厳しい状況にあるイスラエルやソフトウエア産業で外貨を稼いでいるインドの参加や最近EUに加盟したポーランドやルーマニアの参加で、これらの諸国においてもマイクロマシンやMEMSの研究開発が普及していることであった。
 今回のプログラムは5月3日のレセプションの後、各セッションでの発表、最終日の5日は技術開発の成果および関連企業等を視察するテクニカルツアーの3項目で構成されました。
5月3日~4日は、5つのセッションから成るプログラムに沿って、マイクロ・ナノ技術に関する政策、教育、産業等についての合計56の発表とそのQ&Aを通して情報が交換されました。日本の代表団は3つのセッションにおいて計4件の発表をいたしました。セッション1の各参加国・地域のマイクロ・ナノ技術に関する政策、教育、産業等の現状を報告するCountry Reviewの中で、平野代表(当センター技術顧問)が日本の現状について次の内容の発表をしました。
 日本のマイクロマシンに対する科学技術政策は、“戦略的なナノ技術の開発”であることが2000年12月14日付け、科学技術委員会(特別委員会)の報告書に記載されています。その中に、ナノ技術を利用するためには、Human Sized Technology(大きさの基本を人が使用することに置いた技術)と微小なナノ技術の間にSeamless Technology Chain(次第に小さくする一連の技術)を必要とすること。最も大切なことは、日本の産業技術の利点を活かして段階的に小型化する方法(Top-down技術)でナノ技術を開発することで、ナノサイズの人工物の量産には、ナノ技術側からもTop-downによるナノ技術と連鎖し得るナノ技術(Bottom-up技術)を開発し、これらを融合するための技術開発が不可欠であること。このため、2001年3月に公布された日本の科学技術基本計画では、ナノ技術とナノ材料の研究開発を優先することになり、ナノ技術の総予算は2001年の804億円から2003年には904億円に増額されたこと。政府のナノ技術に対する政策論議はさらに継続している中で、経済産業省は2002年に2件のナノ材料の研究開発を計画していること。一つは、ナノ材料と加工、製造と計測、ナノシュミレーション等のナノ技術計画であり、二つ目は、先端材料加工、研究および製造システムに関する先端材料産業計画であること。さらに2004年には、MEMS設計/分析技術者の増員を図ることを目的にMEMS設計/分析支援システムの開発計画を進めいることを発表しました。
 上記の他に当センターの活動状況として、“マイクロマシン技術プロジェクト”の成果として既に商品化されている住友電工の超音波センサやFANUCが開発した1μピッチのdiffracting gratingを造る精密機械の紹介や2002年に当センターがIECに提案したマイクロマシン技術用語の国際標準化について、またマイクロマシン技術による日本の市場規模は、2001年に590億円に達していることを発表しました。
 セッション4のIndustrial developments in MNT (Micro & Nano Technologies)の中で、日本自動車部品総合研究所の原 取締役/技術顧問は、将来の統合知能運行システム車におけるMEMSデバイスへの期待について、ITS(統合知能運行システム)におけるMEMS技術による車内と社外の通信機能の統合システム構想や現在の自動車における運転、停止、安全等の基本機能を支援する電子デバイスのコスト削減や信頼性や性能の改善でMEMSの技術が自動車産業に大きく貢献していることを発表しました。
 セッション5のFuture Outlook - Advanced research in MNTの中で、下山代表(オリンパス最高顧問/当センター名誉理事長)が、Short comments on Bio-Chemistryの題名でオリンパスにおけるバイオ化学、単分子蛍光分析装置、3D構想のマイクロアレイ、バイオ関連ナノ構造MEMSカンチレバー技術等の最近の研究開発活動について発表すると共に、DVDを使用して光学機器、医療機器、産業用機器、バイオ関連機器等の製品群を紹介し会場から喝采を浴びたのが印象的でした。
 また、セッション5の中で、下山 勲主席代表(東京大学教授)が、Nano On Micro Devicesの題名で“次世代マイクロマシン技術”“研究開発戦略”“NANO ON MICRO”項目について発表する中で、動画を用いて自分が忘れた財布の在りかを表示するハンカチ同様に折りたためるディスプレイや、文書の上に載せると翻訳された和文を表示するディスプレイ等、Nano On Microの成果としての将来のユビキタスな生活の一面を紹介しました。 
5月5日のテクニカルツアーは、ウエハーメーカーのSOITECを訪問しました。SOITECは原料のシリコンを日本の信越化学から輸入し、シリコンウエハーを製造し、更にこのシリコンウエハーを自社特許の“Smart Cut”工程でSOIウエハーに変え、ICの材料としてその80パーセントをアメリカに輸出しているそうです。このSOIウエハーは消費電力が少なく、性能が良いためIBMでも採用されており、日本でも販売されています。
 今年のサミットで感じたことは、各国のマイクロマシンに関する政策、教育、産業化等への取り組や将来展望について、この分野のハイレベルな人達のよる情報交換が積極的に行われたことなど、MEMS、MST等の技術開発の進展と共に年一度のフォーラムとして益々重要視されつつあります。日本はこの国際マイクロマシンサミットのオーガナイザーとして、今回のGaetan Menozzi議長の開会挨拶の中でも高く評価されておりました。
 来年、2005年のサミットは、アメリカのテキサス州ダラスで開催されることが決まりました。


2 ハノーバー・メッセ視察報告(4月21日~26日)

  国際産業技術見本市「ハノーバー・メッセ」がドイツ ニーダーザクセン州ハノーバー市において4月19日から24日まで開催されたので視察してきました。この見本市では、①INTERKAMA(プロセスオートメーションの国際的リーデイング見本市)、②ファクトリーオートメーション(製造オートメーションのための国際的リーデイング見本市)、③エネルギー技術(エネルギー技術、再生エネルギー&エネルギーマネージメントの国際的リーデイング見本市)、④表面処理技術&POWER COATING EUROPE(表面処理技術の国際的リーデイング見本市)、⑤産業用部品(車両・機械・プラント建設のための産業用部品&工業用材料の世界見本市)、⑥デジタルファクトリー(統合プロセスとITソリューションのための専門見本市)、⑦マイクロテクノロジー(マイクロシステムテクノロジーとナノテクノロジーの応用のための国際的リーデイング見本市)、⑧研究開発&テクノロジー(研究開発のためのイノベーション市場)の8件の見本市が同時開催されています。このうちマイクロマシンセンターに関連する、⑦マイクロテクノロジーと⑧研究開発&テクノロジーの2件の見本市を中心に調査しました。
 調査の結果、概要として以下の成果・感想を得ました。
 1)全出展社は5040社で、ドイツ以外の出展で最多はイタリアの218社、これに次いで中国(中華人民共和国)が190社、スイス160社、日本(現地法人含む)は20社。中でも中国の欧州市場狙いの積極策が伺われました。
 2)全参加者は約18万人、うち海外からは約5万人。更にそのうちの40%(2万人)は欧州外からの参加者で国際見本市としての評価が定着しているように感じました 
 3)欧州における研究開発の巨人はフラウンフォーファー研究所、産業の巨人はジーメ   
ンスで、その存在感は他を圧倒していました。
 4)4月1日のEU経済圏拡大を基に東欧諸国の展示参画、特に研究開発&テクノロジーの見本市で目立ちました。
 5)マイクロテクノロジー見本市は210社が展示、中でもネットワークグループIVAM(ドイツ)が40社の関連企業を参加させており、またオープンフォーラムでは欧州8ヶ国のネットワーク連合EMINENT構想をアッピールしたことは日本のMEMS産業界のネットワーク展開に大いに参考になりました。ちなみにこのIVAMと米国MEMS INDUSTRY GROUPとのコネクションを執ることができたので、今後の当センターの事業展開で何らかの連携が執れる下地ができました。
 6)研究開発&テクノロジー見本市は420社がライフサイエンス、オプト技術、バイ
オ技樹等を展示、また技術トランスファーの仕掛けとしてオープンフォーラムで大学、研究機関のプレゼンを用意し、積極的に顧客へのアプローチをしていました。材料加工の分野で東欧諸国の展示が目立ったのもこの見本市の特徴でした。また、平日にも拘らず親子や女性の姿が多く見かけられ、展示側も興味を持たせる展示・説明の工夫を凝らして科学・技術に対する興味・期待や普及活動が身近なものとなっているように感じました。
 7)MEMSやナノテクノロジー関連の展示者の中で日本の大学への留学や日本企業へのインターンシップ等経験者と意見交換する中で、日本との人的交流がかなり進んでいる印象を持ちました。 
 8)見本市の全体的な印象として、展示側と見学側が“先ずはコミュニケーション/情報交換から”という姿勢が強く感じられました。
 詳細については広報誌「マイクロマシン」第48号に掲載いたします。また今回の調査結果を今後の調査研究事業に活用していきたいと考えています。

3 新聞記事


4月9日 日本経済新聞
 微生物1分で検出:半導体技術を応用;三菱電機がチップ開発

 三菱電機は半導体の微細加工技術を使い、微生物を素早く検出するチップを開発、まず大腸菌の検出に成功した。チップはシリコン基板上に幅5マイクロメートル以下の溝(流路)を作ってあり、ここを微生物の混じった液体が流れる構造。調べたい食品などを溶かした液体を蛍光色素で処理して菌を着色。この液体をチップに通し、流路の途中を顕微鏡で拡大、電荷結合素子(CCD)カメラで色を検出する仕組み。特定の微生物だけに反応する様々な蛍光色素を使えば、サルモネラ菌なども同時に検出できる見込み。

4月15日 日経産業新聞
 微小電子機械に参入:大学・企業にPR;アネルバ

 アネルバは微小電子機械システム(MEMS)の製造装置市場に参入する。半導体装置で培ったノウハウをもとに薄膜形成装置や食刻装置を投入、大学や企業の研究施設に売り込む。大学の独立法人化でMEMSなどの実用化研究が加速すると見て、新たな収益源に育てたい考えだ。金属CVD(化学的気相成長法)装置「L-700CMO MeMOS」とドライエッチング装置「L-201Dシリーズ」を開発、受注活動を始めた。この二つの装置を使えば酸化膜を貫く電気回路を形成できる。MEMSでは半導体の上に微細な機械部品を載せることなどが想定され、絶縁膜を貫く回路を形成する需要があると判断した。

4月20日 日刊工業新聞
 10ppbの微小ガス検知:半導体センサー開発 液層充填手法を利用;神戸大など

 神戸大学大学院自然科学研究科の出来成人教授と新コスモス電機、日本板ガラスは、揮発性有機化合物(VOC)に対する高い選択性と感度をもつ薄膜型半導体式ガスセンサーを開発した。液層充填(LPI)と呼ばれる手法で金属酸化物をナノ構造化したのが特徴で、10ppb(10億分の1)の微小なガスを検知できる。05年度中に新コスモス電機が装置化する。LPIは出来教授らが開発したプロセスで、自己形成によりナノオーダーで酸化物を成長させる仕組み。選択性を妨げる最大の妨害物質であるエタノールの感度が大幅に下がる一方でキシレンやトルエン、エチルベンゼンなどの感度は大幅に向上することが分かった。

4月20日 日経産業新聞
 食中毒菌、30分で判定:北陸先端大が遺伝子センサー

 北陸先端科学技術大学院大学の民谷栄一教授は、食中毒菌やウイルスによる汚染を30分で精密に測定できる遺伝子センサーを開発した。内臓ヒーターで最適な温度に加熱すると、封入してある酵素が働き、検査対象の菌などが持つDNAを増やす。30分後、スティックに軽く力を加えると中の薄膜弁が壊れ、検査用溶液とDNAが混ざる。サルモネラ菌や病原性大腸菌O-157、B型肝炎ウイルスなどが大量に繁殖していれば、検査液が変質し、スティックの電極から電気が流れなくなる。

4月21日 日刊工業新聞
 消化管内 自力で移動:走行カプセル試作;桐蔭横浜大

 桐蔭横浜大学の伊藤高廣教授、林輝客員教授らは、長さ30ミリ×直径5ミリメートル、重さ1.12グラムと小型で円筒状の形をした「消化管内走行カプセル」を試作した。ピストン運動する永久磁石をカプセル内部に備えた単純な移動機構で、カプセル自身が振動しながら一定方向に動く。胃、腸の手術後に飲み込み、これらの通り具合を確かめる導通試験での使用を目指しており、実用化すれば1日かかっている同試験が最短で数十分から1時間程度で済むという。

4月22日 日刊工業新聞
 マイクロメートル級でガラス複雑3次元加工:マイクロマシン材料に道;千葉大、イオン交換使い

 千葉大学の渡部武弘教授と松坂壮太助手はマイクロメートルサイズでガラスに複雑な3次元加工をする技術を開発した。光をより吸収するようガラス表面にイオン交換で銀イオンを入れた後、波長266ナノメートルの紫外光を表面に照射して加工する。斜めの溝や階段状の段差などが自在につくれ、実際にマイクロファン作製にもはじめて成功した。今後、ネジや傘歯車など複雑な形状のマイクロ部品作りに着手したいとしており、ガラス製マイクロマシン材料の実現に道を開きそうだ。

4月27日 日経産業新聞
 小型チップによる化学反応技術:オムロンなど6社連合

 大日本スクリーン製造やオムロンなど6社は26日、樹脂などの基板上に刻んだ微細な回路を製薬などに利用するマイクロケミカル分野で企業連合(コンソーシアム)を設立すると発表した。大日本スクリーン製造など電機2社のほか、オリンパス、日本ゼオン、堀場製作所、山武など素材や計測器分野のメーカーも参加する。この分野の国内市場規模は現在、数億円だが、経済産業省は2010年に八千億円に拡大すると資産している。

4月30日 日刊工業新聞
 ナノテクサミット18日開催:日本を世界トップへ;政官財で振興策検討

 我が国を世界最先端のナノテクノロジー立国とすることを目的に、政官財の代表者が振興策を検討する日本発の会議「ナノテクサミット」が5月18日に開催されることが決まった。自民党のナノテクノロジー推進議員連盟、総合科学技術会議、日本経団連、ナノテクノロジービジネス推進協議会が共同で開催、国を挙げてナノテク推進を目指すために具体的なアクションプランなどを示した大会宣言を採択する予定。

5月5日 日刊工業新聞
 金の菩薩像 高さ1mm:5軸制御で高精度加工実証;大阪大学とファナック

 大阪大学大学院工学研究科の竹内芳美教授は、ファナックと共同で、高さ1ミリメートルの金製の菩薩像を完成した。特殊な切削工具と同時5軸制御のCAM(コンピューター利用製造)システムを使って加工したもので、高精度な機械加工を実証した。総加工時間は約37時間となったが、マイクロ金型やマイクロマシン機構部品の加工などに使えそうだ。


Ⅱ マイクロマシンセンターの動き

1 平成16年度第1回運営委員会の開催
 4月28日(水)に(財)マイクロマシンセンター会議室において、平成16年度第1回運営委員会が開催され、理事会、評議員会の審議案件について審議されました。
主な審議事項は、①平成15年度事業報告について②平成15年度収支決算について③平成15年度収支差額の処分について④平成16年度小型自動車等機械工業振興事業の事業計画決定について⑤委員会構成の改正について⑥事務局組織について等で、原案通り承認されました。


2 平成16年度の調査研究事業に向けて
2.1 MEMSの信頼性評価技術に関する調査研究
 MMCでは、平成16年度の調査研究事業の1つとして、「MEMSの信頼性評価技術に関する調査研究」を提案していましたが、このほど(社)日本機械工業連合会から委託研究の内諾を得て事業を進める予定となりました。
 MEMSは、目的や用途に合わせて複数の構成要素が集積化されてカスタム製造されるため、産業化促進のためには信頼性評価技術の確立が重要となってきます。本事業ではMEMSの信頼性向上に関する現状と課題、およびMEMS産業化推進のための方策などを調査研究していく予定です。

2.2 平成16年度委託事業の内定
  平成16年度の委託調査研究事業として、財団法人日本機械システム振興協会から「マイクロ・ナノシステムに係る加工組み立て・計測評価・ハンドリング技術に関する調査研究」と社団法人日本機械工業連合会から「MEMSの信頼性評価技術に関する調査研究」の2件の内定をいただきました。前者はナノテクノロジーとMEMSとの融合、後者はMEMS産業化で必須の信頼性問題という、いずれも新規課題への取り組みの事業です。今後その推進のための委員会設置の準備・ご案内を進めてまいりますので、本事業への参画とご協力を宜しく御願いいたします。

2.3 マイクロ化学チップ・システム・データベースの公開について

 MMCは、平成14年度、15年度とマイクロ分析・生産プロジェクトに参画し、マイクロ化学チップ・システム・データベースを開発してまいりました。現在、このデータベースをマイクロ分析・生産プロジェクト関係者に5月中旬より公開するよう準備を進めております。
 データの蓄積についても、今後進めていき、マイクロ化学チップ・システムの実用化に貢献していきたいと考えています。


Ⅲ イベント案内

1 当センター主催のイベント


・ 詳細は当センター調査研究部にお問い合わせ下さい。Tel : 03-5835-1870

(1) 第15回マイクロマシン展
 開 催 日: 平成16年11月10日(水)~12日(金)
 開催場所: 科学技術館・東京北の丸公園

(2) 第10回国際マイクロマシン・ナノテクシンポジウムの開催
 開 催 日: 平成16年11月11日(木)
 開催場所: 科学技術館(東京都千代田区北の丸公園2番1号)


2 その他のイベントのお知らせ


・詳細は当センター調査研究部にお問い合わせ下さい。Tel : 03-5835-1870
・番号上にNew の表示のあるイベントは、今回新規掲載分。
 
(1) DTIP 2004 (Symposium on Design, Test, Integration and Packaging of MEMS/MOEMS)
 開 催 日: 2004年05月12日(水) ~ 14日(金)
 開催場所: Montreux, Switzerland
 主  催: Tima, IEEE, etc.
 情報入手: http://tima.imag.fr/conferences/dtip

New
(2) ナノテクサミット
 開 催 日: 2004年05月18日(火)
 開催場所: 東京、赤坂プリンスホテル
 主  催: ナノテクサミット実行委員会
 情報入手: Tel:03-3219-3561

(3) マイクロマシン・MEMS研究の最新動向コース
 開 催 日: 2004年06月01日(火) ~ 04日(金)
 開催場所: かながわサイエンスパーク
 主  催: (財)神奈川科学技術アカデミー
 情報入手: http://www.actuator.de/

(4) ロボティクス・メカトロニクス講演会2004 (ROBOMEC 04 名古屋)
 開 催 日: 2004年06月18日(金) ~ 20日(日)
 開催場所: 名城大学
 主  催: (社)日本機械学会
 情報入手: http://www.toyota.nitech.ac.jp/robomec04/
 (財)マイクロマシンセンター 後援

New
(5) International Confeference on Electrical Engineering
 開 催 日: 2004年07月04日(日) ~ 07月06日(金)
 開催場所: 札幌コンベンションセンター
 主  催: (社)電気学会
 情報入手: http://www.ics-inc.co.jp/icee2004/

New
(6) 第10回化学センサ国際会議
 開 催 日: 2004年07月11日(日) ~ 14日(水)
 開催場所: つくば国際会議場
 主  催: 第10回化学センサ国際会議組織委員会,電気化学会
 情報入手: http://www.ics-inc.co.jp/10-imcs/

New
(7) SEMICON West 2004
 開 催 日: 2004年07月12日(月) ~ 16日(金)
 開催場所: San Francisco, California U.S.A.
 主  催: SEMI
 情報入手: http://www.semi.org/wps/portal/_pagr/127/_pa.127/305
 
New
(8) 第9回光エレクトロニクス・光通信国際会議/第3回光インターネット国際会議

 開 催 日: 2004年07月12日(月) ~ 16日(金)
 開催場所: パシフィコ横浜
 主  催: 電子情報通信学会
 情報入手: http://edpex104.bcasj.or.jp/oecc-coin/

New
(9) Nanotech 2004: The 1st International Conference on Nanotechnology
 開 催 日: 2004年07月13日(火) ~ 17日(土)
 開催場所: Meritus Mandarin Hotel, Singapore
 主  催: Nanyang Technological University, Singapore
 情報入手: http://www.nanotech2004.org/

New
(10) インターオプト'04
 開 催 日: 2004年07月13日(火) ~ 16日(金)
 開催場所: 幕張メッセ国際展
 主  催: (財)光産業技術振興協会
 情報入手: http://www.oitda.or.jp/main/io/io04home-j.html

New
(11) 第27回フラーレン・ナノチューブ総合シンポジウム
 開 催 日: 2004年07月28日(水) ~ 30日(金)
 開催場所: 東京大学弥生講堂
 主  催: フラーレン・ナノチューブ研究会
 情報入手: http://www.photon.t.u-tokyo.ac.jp/~fullerene/

(12) Optical MEMS 2004(2004年光マイクロマシン国際会議)
 開 催 日: 2004年08月22日(日) ~ 26日(木)
 開催場所: 香川県高松市、サンポート高松
 主  催: 電気学会センサ・マイクロマシン準部門
 情報入手: http://www.conferences.jp/optical-mems04/

(13) COMS2004 (The 9th International Conference on the Commercialization of Micro and Nano Systems)
 開 催 日: 2004年08月29日(日) ~ 09月02日(木)
 開催場所: Alberta, Canada
 主  催: MANCEF
 情報入手: http://www.mancef-coms2004.org/

(14) μTAS2004
(The 8th International Conference on Miniaturized Systems for Chemistry and Life Sciences)
 開 催 日: 2004年09月26日(日) ~ 30日(木)
 開催場所: Malmo, Sweden
 主  催:
 情報入手: http://www.microtas2004.lu.se/

(15) 第6回国際シンポジウム「ロボットとの共存」
- Living with Robots - Symbiosis of Robots and Human Being -
 開 催 日: 2004年10月04日(月) ~ 05日(火)
 開催場所: 東京、一橋記念講堂
 主  催: (社)日本工学アカデミー
 情報入手: http://www.eaj.or.jp
 (財)マイクロマシンセンター 協賛

(16) European Micro and Nano Systems 2004 (EMN04) Advances & Applications for Micro & Nano Systems
 開 催 日: 2004年10月20日(水) ~ 21日(木)
 開催場所: ESIEE, Noisy le Grand, Paris, France
 主  催: Tima, ASME, and etc.
  情報入手: http://tima.imag.fr/conferences/EMN/


Ⅳ その他会員への情報

1 日本ユニシス・エクセリューションズ株式会社が特別賛助会員入会

 日本ユニシスグループにおけるCAD/CAMシステムの研究開発は、市販商品の研究開発と製造メーカからの受託開発業務の両面において、30年以上にわたる実績を有しています。1990年台初には3次元統合CAD/CAMシステムであるCADCEUSの販売を開始して、現在でも、唯一の国産の汎用CAD/CAMシステムとして、開発・サポート・販売活動を積極的におこなっています。特に、金型適用分野では業界NO1のシェアを確立し、日本のものづくり技術を側面から支援しています。
 日本ユニシス・エクセリューションズ株式会社(代表取締役社長 山本敏郎、本社 東京都新宿区若松町33-8アールビル)は、日本ユニシスグループにおいて、CADソリューション商品の開発・販売・サポート業務を担っています。マイクロマシンシステムが21世紀の製造業を支える基盤技術になるとの認識のもと、従来から培ってきたCADシステム開発の知見とリソースを生かして、MEMSなどマイクロ部品向け設計支援ソフトの開発を手がけていく方針です。


2 マイクロマシンセンター人事異動


   平成16年4月30日

     野村 正昭  辞職(オリンパス株式会社へ復帰)

   平成16年5月1日

     野村 正昭  嘱託員として採用する
            総務部総務課長
            総務部経理課長併任


3 ホームページのパスワード変更

 平成16年度のスタートにあたり、当センターのホームページの中の会員ページのアドレスの変更を、下記内容でいたします。
    ID(変更無し):members
   パスワード  :!mmc16
    切 替 日  :平成16年6月1日
 

財団法人マイクロマシンセンター  サイトマップ  センターアクセス  お 問 合 せ 
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