【定　義】　垂直な側壁をもつ高アスペクト比の構造体を形成できる反応性イオンエッチング加工法。（JIS/2016)

【解　説】　深掘りエッチング法とも呼ばれている。例えば，反応性イオンエッチング装置にエッチング用ガスと保護膜形成用ガスとの導入を交互に繰返すことによって，高いアスペクト比の形状を形成することが可能となる。（JIS/2016)

【参考資料】

【関連用語】