[ファインMEMSプロジェクト 2006-2008]
研究開発テーマ:MEMS/半導体の一体形成技術の開発

MEMS-半導体プロセス統合モノリシック製造技術
(助成事業:株式会社日立製作所)
CMOSプロセス互換のMEMSプロセスによるLSIとMEMSモノリシック集積化技術を開発する。CMOS材料プロセスによるMEMS構造体形成、LSI微細加工技術を活かした空洞形成封止を行い、高機能化、高信頼化を図る。
 開発者の抱負
 後藤 康
 中央研究所ナノエレクトロニクス研究部 主任研究員
 MEMSを半導体と融合することにより、ITの世界で情報を扱ってきたLSIは、実世界と直接情報をやりとりする新らたなデバイスへ飛躍します。
 本プロジェクトでは、このための基礎固めをできればと思います。